| 用MOCVD法在玻璃和Si(100)基片上制备TiO2薄膜 |
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| 引用本文： | 李丽娜,谷景华,张跃,路浩天. 用MOCVD法在玻璃和Si(100)基片上制备TiO2薄膜[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(5): 902-906 |
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| 作者姓名： | 李丽娜 谷景华 张跃 路浩天 |
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| 作者单位： | 北京航空航天大学材料学院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点资助项目（No.50436040） |
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| 摘 要： | 采用大气开放式金属有机化合物化学气相沉积方法(AP-MOCVD),以四异丙醇钛(TTIP)为原料,在不同的实验条件下分别在Si(100)和玻璃基片上制备TiO2薄膜.当气化室温度为140℃,基片温度为350℃时,玻璃基片上生长的薄膜XRD谱中只出现了锐钛矿相(200)晶面的衍射峰,表明此时薄膜高度取向,在Si(100)基片上生长的TiO2薄膜也有取向性.通过SEM观察高度取向的TiO2薄膜表面出现四边形的微结构.
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| 关 键 词： | MOCVD TiO2薄膜 取向性, |
| 文章编号： | 1000-985X（2005）05-0902-05 |
| 收稿时间： | 2005-07-14 |
| 修稿时间： | 2005-07-14 |
Growth of TiO2 Thin Films on Glass and Si(100) Substrates by AP-MOCVD |
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| LI Li-na,GU Jing-hua,ZHANG Yao,LU Hao-tian. Growth of TiO2 Thin Films on Glass and Si(100) Substrates by AP-MOCVD[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(5): 902-906 |
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| Authors: | LI Li-na GU Jing-hua ZHANG Yao LU Hao-tian |
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| Affiliation: | School of Materials Science and Engineering, Beijing University of Aeronautics and Astronautics, Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MOCVD TiO2 thin film orientation |
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