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| 正交设计的最新发展和应用(IV)—正交设计的投影性质 | |
| 作者姓名： | 方开泰 马长兴 李久坤 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院应用数学所,北京100080;香港浸会大学数学系 2. 南开大学数学系,天津300071 3. 沈阳建筑工程学院管理工程系,辽宁,沈阳110015 |
| 摘 要： | 一个试验有ｋ 个因素,每个都有ｑ 个水平,若用正交表 Ｌｎ （ｑｓ）（ｓ＞ ｑ）来安排,是否取 Ｌｎ（ｑｓ）中的任意ｋ 列都有相同效果呢？ 这方面的性质称为正交表的投影性质,这些性质对正交表的使用有指导作用。本讲介绍部份正交表的投影性质以及均匀性在其中的应用 |
| 关 键 词： | 正交设计 均匀性 同构 D 效率 |
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