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壁涂覆后和LHCD期间HL—1M装置辐射损失测量
作者姓名:施明亮
摘    要:本文叙述了第一壁涂覆和低杂波电流驱动对HL-1M装置等离子体辐射损失的影响。

关 键 词:辐射损失 硼化 硅化 锂化 LHCD 托卡马克
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