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利用喷气式Z箍缩等离子装置进行X射线光刻
作者姓名:
郭小明 张贵新
摘 要:
喷气式Z箍等离子体装置可以产生较强的软X射线,能量大约在2-6keV之间,利用此装置产生的软X射线,用CSM作光刻胶,进行了X射线光刻的初步研究,得到了较为的光刻图形,曝光深度估计在10μm左右。
关 键 词:
X箍缩 等离子体 X射线源 光刻
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