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Neue Abkömmlinge der TiSi2-Struktur
Authors:G. Flieher  H. Völlenkle  H. Nowotny
Affiliation:(1) Institut für physikalische Chemie der Universität Wien, Wien, Österreich
Abstract:Zusammenfassung In Mn-Defektdisiliciden führt Substitution von Mn durch Cr, Fe oder Co zur Ausbildung neuer Phasen, die durch bestimmte Vielfache derc-Achse einer charakteristischen Unterzelle repräsentiert werden. Das Verhältnis Metall/Silicium ist eine Funktion der Valenzelektronenkonzentration. Os2Ge3 erweist sich als isotyp mit Os2Si3 und gehört damit ebenfalls zu den TiSi2-Abkömmlingen.
Substitution of Mn by Cr, Fe or Co within Mn-defect disilicides leads to a series of new phases characterized by various multiples of thec-axis of the subcell. The metal/silicon ratio depends on the valence electron concentration. Os2Ge3 has been found to be isotypic with Os2Si3, another derivative of the TiSi2-structure type.


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