C_(60)吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O_2~(-·))的活性 |
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引用本文: | 刘绪峰,官文超,程珍贤.C_(60)吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O_2~(-·))的活性[J].应用化学,2006(1). |
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作者姓名: | 刘绪峰 官文超 程珍贤 |
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作者单位: | 华中科技大学化学系,华中科技大学化学系,湖北大学化学与材料科学学院 武汉 430074 湖北大学化学与材料科学学院 武汉,武汉 430074,武汉 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(20474020) |
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摘 要: | 亚氨基二乙酸酯(NH(CH2COOR)2,R=Me、Et、t-Bu)与C60的光化学反应制得C60吡咯烷衍生物2, 产率为55%-36%(基于已反应的C60),反应活性与R基的空间效应有关,反应活性的顺序为R=Me>Et> t-Bu。C60吡咯烷衍生物2(R=Me)用Nail、CH,OH水解后,经盐酸酸化得相应的羧酸衍生物3,产率为65% (基于C60吡咯烷衍生物2)。C60吡咯烷衍生物2和3的结构为1H NMR、13C NMR、IR和元素分析所证实。用化学发光法检测了C60羧酸衍生物3对邻苯三酚自氧化产生的超氧阴离子(O2-·)的清除效果。结果表明,C60羧酸衍生物3能有效地清除O2-·,并且有明显的量效关系。当C60羧酸衍生物3浓度为0.3 mmol/L时,清除效率可达70%。讨论了结构因素对C60衍生物清除活性的影响。
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关 键 词: | 光化学反应 富勒烯吡咯烷衍生物 化学荧光 超氧阴离子自由基(O2-·) |
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