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C_(60)吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O_2~(-·))的活性
引用本文:刘绪峰,官文超,程珍贤.C_(60)吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O_2~(-·))的活性[J].应用化学,2006(1).
作者姓名:刘绪峰  官文超  程珍贤
作者单位:华中科技大学化学系,华中科技大学化学系,湖北大学化学与材料科学学院 武汉 430074 湖北大学化学与材料科学学院 武汉,武汉 430074,武汉
基金项目:国家自然科学基金资助项目(20474020)
摘    要:亚氨基二乙酸酯(NH(CH2COOR)2,R=Me、Et、t-Bu)与C60的光化学反应制得C60吡咯烷衍生物2, 产率为55%-36%(基于已反应的C60),反应活性与R基的空间效应有关,反应活性的顺序为R=Me>Et> t-Bu。C60吡咯烷衍生物2(R=Me)用Nail、CH,OH水解后,经盐酸酸化得相应的羧酸衍生物3,产率为65% (基于C60吡咯烷衍生物2)。C60吡咯烷衍生物2和3的结构为1H NMR、13C NMR、IR和元素分析所证实。用化学发光法检测了C60羧酸衍生物3对邻苯三酚自氧化产生的超氧阴离子(O2-·)的清除效果。结果表明,C60羧酸衍生物3能有效地清除O2-·,并且有明显的量效关系。当C60羧酸衍生物3浓度为0.3 mmol/L时,清除效率可达70%。讨论了结构因素对C60衍生物清除活性的影响。

关 键 词:光化学反应  富勒烯吡咯烷衍生物  化学荧光  超氧阴离子自由基(O2-·)
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