| SD—400keV离子注入机调试报告 |
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| 引用本文： | 刘清前,王克明,刘希举,王宜华. SD—400keV离子注入机调试报告[J]. 山东大学学报(理学版), 1988, 0(1) |
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| 作者姓名： | 刘清前 王克明 刘希举 王宜华 |
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| 作者单位： | 山东大学物理系，山东大学物理系，山东大学物理系，山东大学物理系 |
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| 摘 要： | 一、引言 SD—400keV离子注入机是一种多用途离子注入机,它具有注入元素种类多、能量调节范围广、扫描面积大等特点,可以注入从质量数为1的氢离子直到质量数大于200的重离子;能量从50keV到400keV连续可调;具有垂直扫描和非垂直扫描两种功能。本机主要用于功能材料、固体材料改性和功能器件的研究以及离子与固体相互作用的基础研究等领域。
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ON 400 keV IMPLANTER ADJUSTMENT OF MACHINE |
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| Liu Qingqian,Wang Keming,Liu Xiju , Wang Yihua. ON 400 keV IMPLANTER ADJUSTMENT OF MACHINE[J]. Journal of Shandong University, 1988, 0(1) |
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| Authors: | Liu Qingqian Wang Keming Liu Xiju & Wang Yihua |
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| Abstract: | A variety of problems and methods for adjustment of 400 keV implanter have been described. 400 keV implanter is a large special equipment for studying material science. Succesful research indicates that the ton optics, ion source, electronic and mechanical designs are reasonable. |
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| Keywords: | implanter mass resolution electrical breakdown in vacuum |
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