Ga/HZSM—5催化剂中镓的状态及其颁的XPS研究 |
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引用本文: | 高志贤,谭长瑜.Ga/HZSM—5催化剂中镓的状态及其颁的XPS研究[J].燃料化学学报,1995,23(3):301-305. |
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作者姓名: | 高志贤 谭长瑜 |
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摘 要: | 利用XPS技术对不同Ga/HZSM-5镓组分的分布状态进行考察。结果表明镓与分子筛之间产生了相互作用,以活性组分和游离太镓存在,且镓呈外表面富集。还原、氧化处理对镓的状态及分布有明显的影响。关联催化活性评价结果,认为与HZSM-5产生相互作用的镓组分为低碳烷烃催化芳构化反应的活性物种。镓的均匀分布有利于提高催化活性。
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关 键 词: | 催化剂 XPS 镓 沸石 HZSM-5沸石 |
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