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用于CF4反应性离子蚀刻Si的非晶氢化碳掩模的选择性沉积

引用本文：	马丁.用于CF4反应性离子蚀刻Si的非晶氢化碳掩模的选择性沉积[J].等离子体应用技术快报,2000(11):7-8.

作者姓名：	马丁

摘要：
关键词：	四氟化碳反应性离子蚀刻硅非晶氢化碳掩膜选择性沉积薄膜
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