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| 时间驱动荧光猝灭法测定痕量Cu(Ⅱ) | |
| 作者姓名： | 徐金明 陶慧林 夏国朝 |
| 作者单位： | 桂林工学院材料与化学工程系,桂林,541004;桂林工学院材料与化学工程系,桂林,541004;桂林工学院材料与化学工程系,桂林,541004 |
| 摘 要： | 研究了Cu-酪氨酸荧光静态猝灭体系,络合物为Cu(Tyr)22 ,猝灭常数K为1.59×1010.以时间驱动模式代替浓度模式,在pH 8.8的硼砂介质中,测得Cu2 的线性范围为4.00×10-7～1.12×10-5 mol/L和8.00×10-6～1.12×10-4 mol/L,相关系数R=0.9996/0.9992,检出限(3σ)为6.6 × 10-8 mol/L,相对标准偏差(RSD)为0.78%(n=11,C(Cu2 )=2.4×10-6 mol/L).本方法可用于实际样品中痕量铜的测定. |
| 关 键 词： | 时间驱动 荧光猝灭 酪氨酸 铜离子 |
| 文章编号： | 1000-0720（2007）11-070-04 |
| 修稿时间： | 2006-09-13 |
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