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4H-SiC pn结型二极管击穿特性中隧穿效应影响的模拟研究
引用本文:吕红亮,张义门,张玉明.4H-SiC pn结型二极管击穿特性中隧穿效应影响的模拟研究[J].物理学报,2003,52(10):2541-2546.
作者姓名:吕红亮  张义门  张玉明
作者单位:西安电子科技大学微电子所,西安 710071
摘    要:基于4H-SiC材料特性,建立了4H-SiC pn结型二极管的击穿模型.该模型在碳化硅器件中引入 雪崩倍增效应和隧穿效应.利用该模型,分析了隧穿效应对器件击穿特性的影响;解释了不 同的温度和掺杂条件下,器件的击穿机理.该模型较好地反映了实际器件的击穿特性. 关键词: 4H-SiC 二极管 击穿特性 隧穿效应 碰撞离化 模型

关 键 词:4H-SiC  二极管  击穿特性  隧穿效应  碰撞离化  模型
文章编号:1000-3290/2003/52(10)/2541-06
收稿时间:2002-11-19
修稿时间:2002年11月19

The simulation study of the tunneling effect in the breakdown of 4H-SiC pn junc tion diode
Lü Hong-Liang,Zhang Yi-Men,Zhang Yu-Ming.The simulation study of the tunneling effect in the breakdown of 4H-SiC pn junc tion diode[J].Acta Physica Sinica,2003,52(10):2541-2546.
Authors:Lü Hong-Liang  Zhang Yi-Men  Zhang Yu-Ming
Abstract:
Keywords:silicon carbide  pn diode  breakdown  tunneling effect  impact ionizat ion  model  
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