|
|||||
|
|
| 酞菁镍—表面活性剂薄膜修饰电极及其催化性能的研究 | |
| 引用本文： | 刘婷,胡乃非.酞菁镍—表面活性剂薄膜修饰电极及其催化性能的研究[J].高等学校化学学报,1996,17(10):1532-1536. |
| 作者姓名： | 刘婷 胡乃非 |
| 摘 要： | 将酞菁镍（ＮｉＰｃ）掺入阳离子表面活性剂双十二烷基二甲基溴化铵（ＤＤＡＢ）的氯仿溶液中，并涂布于热解石墨电极表面，待氯仿挥发后制得ＮｉＰｃ－ＤＤＡＢ薄膜电极。循环伏安实验表明，在ＫＢｒ溶液中，该薄膜电极有两对良好且稳定的还原氧化峰，第一对峰的Ｅｐｃ１＝－０．６４Ｖ，Ｅｐａｌ＝－０．６０Ｖ（ｖｓ．ＳＣＥ）；第二对峰的Ｅｐｃ２＝－０．８４Ｖ，Ｅｐａ２＝－０．８０Ｖ。本文着重探讨了第二对峰的电化学行为， |
| 关 键 词： | 酞菁镍 表面活性剂 薄膜电极 电化学 催化 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |