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| 碲锌镉晶片精密抛光效果的影响因素分析 | |
| 引用本文： | 种宝春,徐品烈,张文斌.碲锌镉晶片精密抛光效果的影响因素分析[J].电子工业专用设备,2022(5):24-28. |
| 作者姓名： | 种宝春 徐品烈 张文斌 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 摘 要： | 碲锌镉(CZT,CdZnTe)晶片是生长红外焦平面列阵所用碲镉汞(HgCdTe)薄膜的衬底材料.为了满足碲镉汞液相外延的性能要求，采用化学机械抛光可获得平面度高、粗糙度低、无损伤层的碲锌镉晶片表面。通过对抛光结构的机械运动分析，建立了抛光过程中各参数对工艺指标的影响，通过实验优化工艺参数获得高质量的抛光效果。 |
| 关 键 词： | 碲锌镉晶体 机械抛光运动 工艺实验设计 |