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| 曝光剂量精度误差分析研究 | |
| 引用本文： | 高爱梅,宫晨,张乾,黄晓鹏.曝光剂量精度误差分析研究[J].电子工业专用设备,2022(5):10-12+23. |
| 作者姓名： | 高爱梅 宫晨 张乾 黄晓鹏 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 摘 要： | 曝光剂量精度是光刻工艺中重要的控制参数，从剂量控制模型出发，分析了影响剂量精度的因素并建立误差模型，进一步将需求指标分解到各误差项，作为剂量控制系统的设计输入；通过试验测试剂量精度和重复精度满足设计需求，验证了剂量误差模型的准确性。 |
| 关 键 词： | 剂量精度 剂量重复精度 曝光剂量 线宽均匀性 |