Anwendung der quantitativen Augerelektronenspektroskopie (AES) auf dünne Oberflächenschichten |
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Authors: | S Hofmann J Erlewein |
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Institution: | (1) Max-Planck-Institut für Metallforschung, Institut für Werkstoffwissenschaften, Stuttgart |
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Abstract: | Zusammenfassung Die Grundgleichungen der quantitativen Auger-Elektronenspektroskopie werden auf dünne, homogene Schichten angewendet und am Beispiel einer Sn-Segregationsschicht auf einer Cu(111)-Oberfläche durch Vergleich mit Ergebnissen der Beugung niederenergetischer Elektronen (LEED) überprüft. Durch Variation der Oberflächenbelegung ist es möglich, das Verhältnis der mittleren freien Weglängen der Augerelektronen aus Augerübergängen verschiedener Energien des Matrixelements unmittelbar zu erhalten.
Application of quantitative Auger electron spectroscopy (AES) to thin surface layers Summary The basic equations of quantitative Auger electron spectroscopy are applied to thin, homogeneous layers and are examined with reference to the example of a Sn segregation layer on a Cu(III) surface by comparison with the results for the diffraction of low-energy electrons (LEED). By variation of the surface coverage it is possible to obtain directly the ratio of the mean free parts of the Auger electron from Auger transitions of various energies of the matrix element. |
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