Anwendung der Ionenstrahl- und Plasma?tztechnik in der elektronischen Feinstrukturierung und ihre analytische Problematik anhand praktischer Erfahrungen |
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| Authors: | Konrad Fischer Dewey Frank Bazarre Guido Bell Berthold Kegel und Gerhard Liebel |
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| Institution: | (1) AEG-Telefunken, Theresienstr. 2, D-7100 Heilbronn, Bundesrepublik Deutschland;(2) Technics Inc., 5510 Vine Street, 22310 Alexandria, VA, USA;(3) Technics GmbH Europa, Dieselstr. 22, D-8011 Kirchheim, Bundesrepublik Deutschland |
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| Abstract: | Zusammenfassung Die Herstellung feinstrukturierter Schaltungen in der Elektronik hat zu neuen Strukturierungsverfahren geführt, die heute im Produktionsmaßstab eingesetzt werden. Im folgenden Beitrag wird die Ionenstrahl- und Plasmaätztechnik in ihren Prinzipien und ihrer praktischen Anwendung dargelegt.
Application and analytical problems of ion beam etching and plasma etching in structuring of electronic devices Summary The manufacturing of fine line geometries in electronic circuits requires new technologies. This paper describes principles and practical applications of ion milling and plasma etching.
Für anregende und hilfreiche Beiträge in einer Reihe von Erörterungen danken die Autoren Herrn Gerhard Lässing und Herrn Dr. Frank Stephany von der Firma AEG-Telefunken, Heilbronn. |
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