| 离子束平动刻蚀工艺衍射光学元件的设计及制作 |
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| 引用本文： | 徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,徐向东,傅绍军.离子束平动刻蚀工艺衍射光学元件的设计及制作[J].光学技术,2002,28(4):345-346. |
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| 作者姓名： | 徐俊中 赵逸琼 王炜 李永平 徐向东 傅绍军 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026
2. 国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230027 |
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| 基金项目： | 国家 8 6 3 4 16课题资助项目 |
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| 摘 要： | 提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法———离子束平动刻蚀工艺。分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的设计方法。结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。这种工艺方法的理论设计也可以从二维化简为两个一维的设计 ,从而大大简化了设计计算的复杂程度
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| 关 键 词： | 衍射光学元件 平动 刻蚀 |
| 文章编号： | 1002-1582(2002)04-0345-02 |
| 修稿时间： | 2001年7月2日 |
Design and fabrication of diffractive optical elements for ion beam moving etching technology |
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| XU Jun-zhong ,ZHAO Yi-qiong ,WANG Wei ,LI Yong-ping ,X U Xiang-dong ,FU Shao-jun.Design and fabrication of diffractive optical elements for ion beam moving etching technology[J].Optical Technique,2002,28(4):345-346. |
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| Authors: | XU Jun-zhong ZHAO Yi-qiong WANG Wei LI Yong-ping X U Xiang-dong FU Shao-jun |
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| Institution: | XU Jun-zhong 1,ZHAO Yi-qiong 1,WANG Wei 1,LI Yong-ping 1,X U Xiang-dong 2,FU Shao-jun 2 |
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| Abstract: | A novel ion beam moving etching technology used to fabricate diffractive optical elements (DOE) is presented. The principle and process of the design diffractiv e optical elements using this new method, and the composition of the etching sy stem, and design method of the mask are introduced. |
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| Keywords: | DOE moving etching |
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