| 优化掩模分布改善数字光刻图形轮廓 |
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| 引用本文： | 郭小伟,杜惊雷,刘永智.优化掩模分布改善数字光刻图形轮廓[J].光学学报,2009,29(3). |
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| 作者姓名： | 郭小伟 杜惊雷 刘永智 |
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| 作者单位： | 1. 电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054
2. 四川大学物理学院,四川,成都,610064 |
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| 摘 要： | 基于数字微反镜(DMD)的无掩模数字光刻系统可用于IC掩模制作或育接作为微结构的加工工具,有着广泛的应用前景.但理沦和实验均发现基于DMD数宁光刻系统加工连续表面微结构元件时,往往难以获得预期的图形轮廓,加工出的图形表面具有规则的振荡起伏.在深入探讨DMD灰度图形传递的基础上,分析了空间像畸变产生的物理机制,并提出用模拟退火算法来优化掩模图形,在5%的相对曝光量偏差范围内模拟表明优化有效地消除了表面起伏,最后利用优化的掩模实验加工出表面轮廓比较良好的轴锥镜阵列.该方法能有效改善面形质量,而且不存在掩模制作等问题,这对于制作高质量的微结构元件有重要意义.
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| 关 键 词： | 无掩模光刻 表面起伏校正 模拟退火算法 数字微反镜 |
Improving the Profiles of Imaging Patterns by Optimizing Mask in DMD-Based Maskless Photolithography |
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| Guo Xiaowei,Du Jinglei,Liu yongzhi.Improving the Profiles of Imaging Patterns by Optimizing Mask in DMD-Based Maskless Photolithography[J].Acta Optica Sinica,2009,29(3). |
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| Authors: | Guo Xiaowei Du Jinglei Liu yongzhi |
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