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| 用于同步辐射全息掩模离子刻蚀光栅的制造 | |
| 引用本文： | 王春霞.用于同步辐射全息掩模离子刻蚀光栅的制造[J].光机电信息,1996,13(6):21-24. |
| 作者姓名： | 王春霞 |
| 摘 要： | 在X射线和真空紫外波段使用的衍射光栅产品中,要求光栅的表面、光栅常数、刻槽轮廓的精度必须非常高.卡尔·蔡司厂使用了毫微米技术,如机械刻划、全息照相记录、全息照相象差校正和离子刻蚀技术.应该说,这是对于紫外和红外光谱波段高质量衍射光栅十年生产经验的总结.生产工艺中存在的问题也正在进行改进.新技术能保证用最有效的技术生产光栅. |
| 关 键 词： | 同步辐射 离子刻蚀 衍射光栅 制造 |
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