| 圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较 |
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| 引用本文： | WANG Feng-ying,郭会斌,TANG Wei-zhong,吕反修.圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较[J].人工晶体学报,2008,37(4):895-900. |
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| 作者姓名： | WANG Feng-ying 郭会斌 TANG Wei-zhong 吕反修 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱形和椭球形谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积设备中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.对不同的微波输入功率、不同气体压力条件下,两种谐振腔式设备中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟.模拟结果表明,椭球形谐振腔的质量因子要高于圆柱形谐振腔;并且,椭球形谐振腔更适合用于高功率、高压力的金刚石膜沉积环境.这意味着,使用椭球形谐振腔,可获得更高的金刚石膜生长速率.
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| 关 键 词： | 金刚石膜 微波等离子体 FDTD方法 数值模拟 |
Simulation and Comparison of Microwave Plasma in Cylindrical and Ellipsoidal Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition Cavity |
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| WANG Feng-ying,GUO Hui-bin,TANG Wei-zhong,LU Fan-xiu.Simulation and Comparison of Microwave Plasma in Cylindrical and Ellipsoidal Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition Cavity[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(4):895-900. |
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| Authors: | WANG Feng-ying GUO Hui-bin TANG Wei-zhong LU Fan-xiu |
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