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Nafion—玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究
引用本文:张平元 刘柏峰. Nafion—玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究[J]. 分析化学, 1993, 21(4): 405-409
作者姓名:张平元 刘柏峰
作者单位:北京科技大学,冶金部钢铁研究总院,中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室,中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室 1989级硕士研究生,长春 130022,长春 130022
摘    要:研究并提出在HNO_3-NaCl-硫脲(Tu)体系中,Nafion/玻碳(Gc)修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量鉍的方法。表明Tu具络合协同作用,使Nation阳离子交换能力提高。本法检出限为5×10~(-9)mol/L Bi~(3+)(td:5min),电极表面易于再生,文中研究了电极过程机理,计算得[Bi(Tu)_6]~(3+)在Nafion膜中的分配系数(K_D),扩散系数(D)和选择性系数(K_H~[Bi(Tu)_6~+]~(3+))分别为7.57×10~5,5.9×10~(-11)cm~2/s及3.39。

关 键 词:化学修饰电极 阴极溶出 伏安法 铋

Determination of Trace Bismuth by Cathodic Stripping Voltammetry With Nafion/Glassy Carbon Modified Electrode
Zhang Pingyuan,Zhang Yuexia. Determination of Trace Bismuth by Cathodic Stripping Voltammetry With Nafion/Glassy Carbon Modified Electrode[J]. Chinese Journal of Analytical Chemistry, 1993, 21(4): 405-409
Authors:Zhang Pingyuan  Zhang Yuexia
Abstract:
Keywords:Nafion film  Chemically modified electrode  Cathodic stripping voltarometry  Bismuth.  
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