|
|||||
|
|
| 电子束投影复印曝光机 | |
| 引用本文： | 黄经筒,吴振华,张祥龄,游本章,杨铁三,方国成,柏仲茹,齐克修.电子束投影复印曝光机[J].微细加工技术,1986(3). |
| 作者姓名： | 黄经筒 吴振华 张祥龄 游本章 杨铁三 方国成 柏仲茹 齐克修 |
| 作者单位： | 中国科学院电工研究所 (黄经筒，吴振华，张祥龄，游本章，杨铁三，方国成，柏仲茹)，中国科学院电工研究所(齐克修) |
| 摘 要： | 本文介绍电子束投影复印曝光机的结构和性能。此复印曝光机的特点是采用电子束能够同时曝光大面积的图形,复印图形的面积为φ50毫米,最高分辨率为0.5微米。此复印曝光机可在半导体技术中用于复制高分辨率的掩模版和制作声表面波器件,光栅器件等。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |