| 紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模板制作误差容限分析 |
| |
| 引用本文： | 陈少武.紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模板制作误差容限分析[J].光电子．激光,1998,9(6):469-471. |
| |
| 作者姓名： | 陈少武 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所国家光电子工艺中心 |
| |
| 摘 要： | 本文采用电磁波标量衍射理论研究了紫外写入光纤光栅用亚μｍ相位掩模的近场衍射特性，并据此得出了零级衍射抑制的条件，２数值模拟方法研究了相位掩模制作误差对有衍射抑制的影响，分析表明，为使零级衍射效率小于５％，相位掩模的刻槽深度和占空比制作误差必须控制在／△ｈ／〈３８ｎｍ和／△ｆ／〈０．１１的范围内。
|
| 关 键 词： | 相位掩模 光纤光栅 零级抑制 |
Analysis on Tolerance for Fabrication Error of Phase Mask for UV written Fiber Bragg Grating |
| |
| Chen,Shaowu.Analysis on Tolerance for Fabrication Error of Phase Mask for UV written Fiber Bragg Grating[J].Journal of Optoelectronics·laser,1998,9(6):469-471. |
| |
| Authors: | Chen Shaowu |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | phase mask ifiber Bragg grating zero order diffraction depression |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《光电子．激光》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《光电子．激光》下载免费的PDF全文 |
