| 相分离高分子共混薄膜退火和准淬火的原位原子力显微镜研究 |
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| 引用本文： | 廖永贵,由吉春,李学,孙昭艳,石彤非,安立佳. 相分离高分子共混薄膜退火和准淬火的原位原子力显微镜研究[J]. 高等学校化学学报, 2005, 26(9): 1777-1779 |
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| 作者姓名： | 廖永贵 由吉春 李学 孙昭艳 石彤非 安立佳 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室, 长春130022 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划(973计划);国家自然科学基金;国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 近年来，高分子共混薄膜在选择性渗透膜、生物材料、润滑剂、粘结剂、光敏电阻平板印刷、光电器件及纳米尺寸表面图案化等方面的研究日益受到重视，应用前景也十分可观，然而，由于其相容性较差，高分子共混物常发生相分离，相对于本体，表面的分子链具有更大的自由度，因此表面高分子链的热运动状态与本体有很大差别，为控制因相分离而导致的相区尺寸，人们必须同时对相分离热力学及动力学行为进行研究。
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| 关 键 词： | 高分子共混 薄膜 相分离 退火 淬火 原位 原子力显微镜 |
| 文章编号： | 0251-0790（2005）09-1777-03 |
| 收稿时间： | 2004-09-07 |
| 修稿时间： | 2004-09-07 |
Annealing and Quasi-quenching Processes of Phase-Separated PMMA/SAN Thin Film Studied by in situ AFM with Hot Stage |
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| LIAO Yong-Gui,YOU Ji-Chun,LI Xue,SUN Zhao-Yan,SHI Tong-Fei,AN Li-Jia. Annealing and Quasi-quenching Processes of Phase-Separated PMMA/SAN Thin Film Studied by in situ AFM with Hot Stage[J]. Chemical Research In Chinese Universities, 2005, 26(9): 1777-1779 |
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| Authors: | LIAO Yong-Gui YOU Ji-Chun LI Xue SUN Zhao-Yan SHI Tong-Fei AN Li-Jia |
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| Affiliation: | State Key Laboratory of Polymer Physics and Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130022, China |
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| Abstract: | The morphology and phase shift of phase-separated PMMA/SAN thin film on silicon wafer were studied by in situ AFM with hot stage through the annealing and quasi-quenching. The results show that the phase shifts are different between high temperature and room temperature, and between ultrahigh vacuum and ambient and between in situ and ex situ although the morphologies are almost invariable. The reasons were discussed simply. |
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| Keywords: | Polymer blend Thin film Phase separation Annealing Quasi-quenching In situ AFM |
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