亚微米LDD MOSFET’s集成电路的优化设计及研制 |
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引用本文: | 余山,章定康,黄敞.亚微米LDD MOSFET’s集成电路的优化设计及研制[J].半导体学报,1992,13(7):423-429. |
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作者姓名: | 余山 章定康 黄敞 |
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作者单位: | 陕西微电子学研究所,陕西微电子学研究所,陕西微电子学研究所 陕西 临潼710600,陕西 临潼710600,陕西 临潼710600 |
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摘 要: | 本文对 L=0.55μm LDD MOSFET’s的杂质分布及侧墙工艺进行了研究,提出了亚微米 LDD MOSFET’s集成电路的优化工艺设计.
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关 键 词: | 集成电路 优化 掺杂 分布 设计 |
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