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亚微米LDD MOSFET’s集成电路的优化设计及研制
引用本文:余山,章定康,黄敞.亚微米LDD MOSFET’s集成电路的优化设计及研制[J].半导体学报,1992,13(7):423-429.
作者姓名:余山  章定康  黄敞
作者单位:陕西微电子学研究所,陕西微电子学研究所,陕西微电子学研究所 陕西 临潼710600,陕西 临潼710600,陕西 临潼710600
摘    要:本文对 L=0.55μm LDD MOSFET’s的杂质分布及侧墙工艺进行了研究,提出了亚微米 LDD MOSFET’s集成电路的优化工艺设计.

关 键 词:集成电路  优化  掺杂  分布  设计
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