| TiO2陶瓷顶层膜的化学气相淀积生长研究 |
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| 引用本文： | 彭定坤 杨萍华. TiO2陶瓷顶层膜的化学气相淀积生长研究[J]. 高等学校化学学报, 1997, 18(4): 499-503 |
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| 作者姓名： | 彭定坤 杨萍华 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学材料科学与工程系!合肥，230026，中国科学技术大学材料科学与工程系!合肥，230026，中国科学技术大学材料科学与工程系!合肥，230026，中国科学技术大学材料科学与工程系!合肥，230026 |
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| 摘 要： | 以ＴｉＣｌ和Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４为源物质采用热化学气相淀只（ＣＶＤ）法及射频ＰＣＶＤ法在多孔α－Ａｌ２Ｏ３陶瓷衬底上淀积生长ＴｉＯ２薄膜，观测ＴｉＯ２膜的生长方式、生长速率以及结构和表面形貌等，讨论其生长机制，评价ＣＶＤ改性生长的顶怪ＴｉＯ２陶瓷膜的气体渗透性。
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| 关 键 词： | 氧化钛 陶瓷膜 渗透率 CVD PCVD 无机分离膜 |
A Study of Top Layer of TiO_2 Membrane Prepared by Chemical Vapor Deposition Method |
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| PENG Ding-Kun, YANG Ping-Hua, LIU Zi-Tao, MENG Guang-Yao. A Study of Top Layer of TiO_2 Membrane Prepared by Chemical Vapor Deposition Method[J]. Chemical Research In Chinese Universities, 1997, 18(4): 499-503 |
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| Authors: | PENG Ding-Kun YANG Ping-Hua LIU Zi-Tao MENG Guang-Yao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Titanium oxide Ceramic membrane Chemical vapor deposition Permeability |
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