| ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N2气氛中的热退火研究 |
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| 引用本文： | 辛煜,宁兆元,程珊华,陆新华,甘肇强,黄松.ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N2气氛中的热退火研究[J].物理学报,2002,51(2):439-443. |
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| 作者姓名： | 辛煜 宁兆元 程珊华 陆新华 甘肇强 黄松 |
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| 作者单位： | (1)苏州大学化学系,苏州215006; (2)苏州大学物理系薄膜材料实验室,苏州215006 |
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| 基金项目： | 江苏省教育委员会自然科学研究基金资助的课题~~ |
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| 摘 要： | 改变CHF3CH4源气体流量比,使用微波电子回旋共振化学气相沉积方法(ECRCVD)制备了具有不同C—F键结构的aC:F:H薄膜,着重研究了退火对其结构的影响.结果显示薄膜的厚度及其光学带隙E04随退火温度的上升均呈现了不同程度的下降.借助于红外吸收光谱和所提出的热解模型解释了产生这种关系的结构上的根源.
关键词：
电子回旋共振化学气相沉积
红外吸收光谱
热退火
光学带隙
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| 关 键 词： | 电子回旋共振化学气相沉积 红外吸收光谱 热退火 光学带隙 |
| 收稿时间： | 7/6/2001 12:00:00 AM |
| 修稿时间： | 8/4/2001 12:00:00 AM |
Investigation of thermal annealing for a-C:F:H films deposited with microwave ECR-CVD method |
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| Xin Yu,Ning Zhao-Yuan,Cheng Shan-Hua,Lu Xin-Hua,Gan Zhao-Qiang,Huang Song.Investigation of thermal annealing for a-C:F:H films deposited with microwave ECR-CVD method[J].Acta Physica Sinica,2002,51(2):439-443. |
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| Authors: | Xin Yu Ning Zhao-Yuan Cheng Shan-Hua Lu Xin-Hua Gan Zhao-Qiang Huang Song |
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| Institution: | Xin Yu 1) Ning Zhao-Yuan 1) Cheng Shan-Hua 1) Lu Xin-Hua 2) Gan Zhao-Qiang 1) Huang Song 1) 1) |
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| Abstract: |
Keywords： |
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| Keywords: | ECR-CVD Infrared spectra thermal annealing optical band gap |
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