| Fe-Ti-N薄膜的结构和性能研究 |
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| 引用本文： | 李丹,顾有松,常香荣,李福燊,乔利杰,田中卓. Fe-Ti-N薄膜的结构和性能研究[J]. 人工晶体学报, 2002, 31(5): 481-485 |
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| 作者姓名： | 李丹 顾有松 常香荣 李福燊 乔利杰 田中卓 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.19890310)资助项目 |
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| 摘 要： | Fe-Ti-N薄膜在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备,膜厚为630～780nm.当氮含量在Fe-Ti(3.9at.;)-N(8.8at.;) 和 Fe-Ti(3.3at.;)-N(13.5at.;)范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而 Hc下降为89A/m,可以满足针对10Gb/in2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.
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| 关 键 词： | Fe-Ti-N薄膜 结构 磁性, |
| 文章编号： | 1000-985X(2002)05-0481-05 |
| 修稿时间： | 2002-05-20 |
Structure,Properties and Thermal Stability of the Fe-Ti-N Films |
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