| 沉淀分离光度法测定金属铜钴镍及其合金中微量硅 |
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| 引用本文： | 毛禹平.沉淀分离光度法测定金属铜钴镍及其合金中微量硅[J].理化检验(化学分册),2003,39(11):671-672. |
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| 作者姓名： | 毛禹平 |
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| 作者单位： | 昆明冶金研究院,昆明,650031 |
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| 摘 要： | 金属铜钴镍中微量硅的光度法分析 ,由于有色离子的干扰 ,现行的方法中 ,常用萃取方法分离硅1,2 ] ,使得分析流程长 ;使用有机溶剂污染环境 ,对操作者健康不利。本文采用铁氰化钾 亚铁氰化钾沉淀分离大量铜钴镍等离子 ,让微量硅留于溶液中 ,利用小体积 硅钼蓝吸光光度法较好地解决了大量有色离子中微量硅的分离与测定。1 试验部分1.1 仪器与试剂72 1型分光光度计 (上海第三分析仪器厂 )沉淀剂 :称取铁氰化钾、亚铁氰化钾各 3.8g于2 5 0ml烧杯中 ,加水约 5 0ml,微热溶解后 ,移入10 0ml容量瓶中 ,用水稀释至刻度 ,混匀。硅标准溶液 :以高…
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| 关 键 词： | 沉淀分离光度法 铜 钴 镍 合金 硅 |
| 文章编号： | 1001-4020(2003)11-0671-02 |
| 修稿时间： | 2002年1月12日 |
Photometric Determination of Microamounts of Silicon in Copper, Cobalt and Nickel After Precipitation-separation |
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