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基于SPH方法的KDP晶体(001)晶面纳米压痕研究
引用本文:郭晓光,刘子源,高航,郭东明.基于SPH方法的KDP晶体(001)晶面纳米压痕研究[J].半导体学报,2015,36(8):083007-7.
作者姓名:郭晓光  刘子源  高航  郭东明
基金项目:国家重点基础研究发展计划;创新研究群体科学基金
摘    要:为了避免有限元网格法在处理大变形问题时易发生网格畸变的缺陷,一种无网格仿真方法光滑粒子流体动力学(SPH)被引入。文章基于与应变率无关的弹塑性理论建立了KDP晶体材料本构模型。在KDP晶体(001)晶面上开展了基于SPH方法的纳米压痕仿真研究。仿真结果表明:加载过程中,最大Von Mises应力和最大塑性应变集中于压头尖部附近区域。Von Mises应力的分布形状类似于同心圆。卸载过程中晶体内部塑性变形分布未发现明显变化。卸载结束时最大等效应力分布在压痕及其棱边处。当最大加载载荷小于8mN时,发现了Von Mises应力影响深度与下压深度之间近似的正比例关系。此外,开展了KDP晶体(001)晶面纳米压痕的实验研究,验证了材料参数及修正后的应力-应变曲线的合理性,发现并分析了加工变质层对压头下压的阻碍作用。

关 键 词:KDP  crystal  (001)  face  nano-indentation  SPH  numerical  simulation

Nano-indentation study on the (001) face of KDP crystal based on SPH method
Guo Xiaoguang,Liu Ziyuan,Gao Hang and Guo Dongming.Nano-indentation study on the (001) face of KDP crystal based on SPH method[J].Chinese Journal of Semiconductors,2015,36(8):083007-7.
Authors:Guo Xiaoguang  Liu Ziyuan  Gao Hang and Guo Dongming
Institution:Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China
Abstract:
Keywords:KDP crystal  (001) face  nano-indentation  SPH  numerical simulation
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