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| AgCl/Si_3N_4膜的制备与应用 | |
| 引用本文： | 钟仕科,郭述文,付敏恭.AgCl/Si_3N_4膜的制备与应用[J].南昌大学学报(理科版),1986,10(2):1. |
| 作者姓名： | 钟仕科 郭述文 付敏恭 |
| 作者单位： | 江西大学物理系； 江西大学化学系； |
| 摘 要： | 本文介绍了在Si3N4膜上制作AgCl膜的三种方法:化学沉积法、真空镀银法和真空沉积AgCl法。实验表明,三种方法制得AgCl膜的性能基本一致。AgCl/Si3N4膜可用来制作离子敏感电极,测量溶液中的Ag+和Cl-离子的浓度,测量范围在10-2～10-5M,但对Ag+离子浓度的测量结果不够理想。 |
| 关 键 词： | 制备与应用 真空镀膜 真空沉积 三种方法 实验证明 测量结果 离子浓度 去离子水 测量范围 数字电压表 |
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