ϑ-TaN,eine Hochdruckform von Tantalnitrid |
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Authors: | G Brauer E Mohr A Neuhaus A Skokan |
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Institution: | (1) chemischen Laboratorium der Universität Freiburg, Freiburg, Deutschland;(2) Mineralogisch-Petrologischen Institut der Universität Bonn, Bonn, Deutschland |
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Abstract: | Zusammenfassung Die gewöhnliche hexagonale Form von Tantalnitrid, -TaN (B35-Typ), geht bei 20 bis 100 kbar und 800 bis 960 °C in eine Hochdruckform -TaN (WC-Typ) über. Diese Form zeigt nach Abkühlen und Druckentlastung bei Normalbedingungen eine Höhere Dichte und kleinere Ta–N-Abstände als die Niederdruckform -TaN.
-TaN,A high pressure form of tantalum nitride
The common hexagonal form of tantalum nitride, -TaN (B35-type), is converted to a high pressure form -TaN (WC-type) using pressures of 20 to 100 kbar and temperatures of 800 to 960°C. The high-pressure form, after cooling and pressure relaxation, shows at normal conditions a higher density and shorter distances Ta–N than the low-pressure -TaN. |
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Keywords: | |
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