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ϑ-TaN,eine Hochdruckform von Tantalnitrid
Authors:G Brauer  E Mohr  A Neuhaus  A Skokan
Institution:(1) chemischen Laboratorium der Universität Freiburg, Freiburg, Deutschland;(2) Mineralogisch-Petrologischen Institut der Universität Bonn, Bonn, Deutschland
Abstract:Zusammenfassung Die gewöhnliche hexagonale Form von Tantalnitrid, epsi-TaN (B35-Typ), geht bei 20 bis 100 kbar und 800 bis 960 °C in eine Hochdruckform thetav-TaN (WC-Typ) über. Diese Form zeigt nach Abkühlen und Druckentlastung bei Normalbedingungen eine Höhere Dichte und kleinere Ta–N-Abstände als die Niederdruckform epsi-TaN.
thetav-TaN,A high pressure form of tantalum nitride
The common hexagonal form of tantalum nitride, epsi-TaN (B35-type), is converted to a high pressure form thetav-TaN (WC-type) using pressures of 20 to 100 kbar and temperatures of 800 to 960°C. The high-pressure form, after cooling and pressure relaxation, shows at normal conditions a higher density and shorter distances Ta–N than the low-pressure epsi-TaN.
Keywords:
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