| 高纯氧化钨中微量杂质的ICP—MS法测定 |
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| 引用本文： | 邓必阳,朱炳泉.高纯氧化钨中微量杂质的ICP—MS法测定[J].理化检验(化学分册),1998,34(1):7-8,17. |
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| 作者姓名： | 邓必阳 朱炳泉 |
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| 作者单位： | 中山大学化学系，中山大学化学系，中山大学化学系，中科院广州地球化学研究所，中科院广州地球化学研究所 广州510275，广州510275，广州510275 |
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| 摘 要： | 报道了高纯氧化钨中铅，等微量杂质的电感耦合等离子体质谱测定方法。连择了仪器最佳操作参数，考察了质谱干扰和基体效应，选用标准加入法可克服基体效应。方法不经分离富集，各元素测量值与标准值相吻合，相对误差小于５％，方法快速，准确。
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| 关 键 词： | 高纯氧化钨 铅 铋 镍 锰 氧化钨 ICP－MS |
DETERMINATION OF MICRO-AMOUNT OF IMPURITIES IN TUNGSTEN OXIDE BY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA-MASS SPECTROMETRY |
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| Deng Biyang,Zhang Zhanxia and Yang Xiuhuan.DETERMINATION OF MICRO-AMOUNT OF IMPURITIES IN TUNGSTEN OXIDE BY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA-MASS SPECTROMETRY[J].Physical Testing and Chemical Analysis Part B:Chemical Analgsis,1998,34(1):7-8,17. |
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| Authors: | Deng Biyang Zhang Zhanxia and Yang Xiuhuan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICP-MS High-purity tungsten oxide Lead Bismuth Nickel Manganese |
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