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| 热壁LPCVD设备使用中几个问题的探讨 | |
| 引用本文： | 程开富.热壁LPCVD设备使用中几个问题的探讨[J].电子工业专用设备,1996,25(2):30-32. |
| 作者姓名： | 程开富 |
| 作者单位： | 重庆光电技术研究所 |
| 摘 要： | 文章就热壁ＬＰＣＶＤ设备使用过程中出现的几个问题作了较全面的分析，提出了一些解决办法，并就设备易出现的故障及维护谈一点体会。 |
| 关 键 词： | 热壁LPCVD 多晶硅 氮化硅 半导体光电器件 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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