Ar作稀释气体的长寿命XeCl激光器的研究 |
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作者姓名: | 王广昌 秦玉英 蔡连新 马树森 祝继康 姚永邦 善新新 |
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作者单位: | 中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
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摘 要: | 稀释气体对 XeCl 激光性能有重大影响,对此理论上实验上都巳进行了大量的研究。常用的稀释气体是 He。但理论上 He 的激发态和电离电位太高(>19eV),结果由弹性碰撞所引起的能量损失相当显著,因此,Ar 作为 XeCl激光的稀释气体可能比 He 更合适。另一方面,He、Ne 与 Ar 的价格相差十分悬殊,用价廉易得的 Ar 作为 XeCl 激光的稀释气体,预计可以大大降低 XeCl 激光运转的成本,这对实际应
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