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外延温度对YBCO薄膜结构与性能的影响
作者姓名:欧亚芝  蒲明华  周涛  朱晓磊  李曼  赵勇
作者单位:磁浮技术与磁浮列车教育部重点实验室;西南交通大学超导与新能源开发中心;
基金项目:国家自然科学基金(51072168);中央高校基本科研业务费专项资金(2682013ZT17)
摘    要:采用化学溶液沉积法(CSD),在758℃到772℃不同温度下制备了一系列YBa2Cu3Ox(YBCO)薄膜。通过X射线衍射、扫描电镜观察和物性测量,研究了外延温度对其结构与性能的影响。研究结果表明,在760℃及770℃附近存在两个适合YBCO薄膜外延生长的温度区间,在这两个温区生长制备的YBCO薄膜具有良好的超导性能。760℃和770℃附近制备的样品的临界超导转变温度Tc分别为90K和89K,说明760℃附近的较低温区更适合YBCO薄膜的外延生长。760℃附近生长的薄膜在77K自场下的临界电流密度Jc可达到3MA/cm2。文中进一步对存在两个外延温区间的现象进行了讨论,其机制可能来源于自发形核与诱导外延生长之间的相互竞争。

关 键 词:YBCO  CSD  双外延温度区间
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