| ZQJ—8自动去胶机设计与制造 |
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| 引用本文： | 吴燕,严瑞芳,沈军.ZQJ—8自动去胶机设计与制造[J].微电子技术,2001,29(5):45-48. |
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| 作者姓名： | 吴燕 严瑞芳 沈军 |
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| 作者单位： | 无锡华晶电子设备制造有限公司, |
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| 摘 要： | 本文主要介绍ZQJ-8自动去胶机的设计与制造，着重介绍该设备在机构设计与制造过程中的主要技术难点和解决方法，以及该设备投入使用所取得的经济效益和社会效益。
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| 关 键 词： | 自动去胶机 ZQJ－8 光刻 制造 设计 |
| 文章编号： | 1008-0147(2001)05-45-04 |
| 修稿时间： | 2001年5月25日 |
Design and Manufacturing of ZQJ-8 Automatic Washing Machine for Silicon Wafer |
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| WU Yan,YAN Rui fang,SHEN Jun.Design and Manufacturing of ZQJ-8 Automatic Washing Machine for Silicon Wafer[J].Microelectronic Technology,2001,29(5):45-48. |
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| Authors: | WU Yan YAN Rui fang SHEN Jun |
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| Abstract: | The design and manufacturing of ZQj 8 automatic washine machine for silicon wafer are described in the paper.Emphasis is placed on the technnical key points and difficulties,occurred during design and manufacturing.The public and economical benefits are estimated if its application is eztenede to more production lines. |
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| Keywords: | Transfer Heating H 2SO 4 Photo resist removing Washing |
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