| 退火对电子束热蒸发193nm Al2O3/MgF2反射膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 尚淑珍,邵建达,沈健,易葵,范正修. 退火对电子束热蒸发193nm Al2O3/MgF2反射膜性能的影响[J]. 物理学报, 2006, 55(5) |
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| 作者姓名： | 尚淑珍 邵建达 沈健 易葵 范正修 |
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| 摘 要： | 设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250-400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上.
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| 关 键 词： | 193nm反射膜 退火 光学损耗 吸收 |
Effects of annealing on electron-beam evaporated 193nm Al2O3/MgF2 HR mirrors |
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| Shang Shu-Zhen,Shao Jian-Da,Shen Jian,Yi Kui,Fan Zheng-Xiu. Effects of annealing on electron-beam evaporated 193nm Al2O3/MgF2 HR mirrors[J]. Acta Physica Sinica, 2006, 55(5) |
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| Authors: | Shang Shu-Zhen Shao Jian-Da Shen Jian Yi Kui Fan Zheng-Xiu |
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