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利用硅上倾斜V形槽结构制作闪耀光栅
引用本文:黄信凡,李联珠,高文琦,叶权书. 利用硅上倾斜V形槽结构制作闪耀光栅[J]. 光学学报, 1988, 0(1)
作者姓名:黄信凡  李联珠  高文琦  叶权书
作者单位:南京大学物理系(黄信凡,李联珠,高文琦),南京大学物理系(叶权书)
摘    要:以偏离〈100〉面25.24°的硅〈113〉晶面为基底,采用氧化、光刻等平面工艺,在其上制成光栅常数为36μm的二氧化硅光栅图形作掩模,用常规的硅各向异性腐蚀,在硅上形成连续倾斜的V形槽结构,制成槽距为36μm波长6328(?)时衍射效率达69%的闪耀光栅,进一步缩小槽距,可望获得实用的闪耀光栅.

关 键 词:闪耀光栅  各向异性腐蚀

Fabrication of blazed grating by sloping V-groove structures on silicon
HUANG XINFAN,LI LIANGZHU,GAO WENQI AND YE QUANSHU. Fabrication of blazed grating by sloping V-groove structures on silicon[J]. Acta Optica Sinica, 1988, 0(1)
Authors:HUANG XINFAN  LI LIANGZHU  GAO WENQI AND YE QUANSHU
Abstract:
Keywords:blazed grating  anisotropic etching.  
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