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新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺
引用本文:金琦玢,李渡进,刘礼群.新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺[J].光学技术,1992(2).
作者姓名:金琦玢  李渡进  刘礼群
作者单位:西安西北光学仪器厂,西安西北光学仪器厂,西安西北光学仪器厂 西安 710043,西安 710043,西安 710043
摘    要:随着我国现代科学技术的发展,特别是激光技术、微电子学技术、空间技术的发展,对光学零件的精度要求不断的提高,因而出现了新的高精度设备“LP—1000”环形抛光机。本文主要根据我们使用“LP—1000”环形抛光机的实践。分析比较LP—1000环形抛光机与目前使用的“_ⅢP—350”三轴抛光机抛光机理的区别,其中包括两种抛光机的抛光机理、运动分析、受力分析及“LP—1000”抛光模的制造工艺,加工高精度光学零件易发生的问题和解决方法。


Mechanical Analysis of Novel Buffing Machine Type LP—1000 and Manufacturing process of Buffing die
Abstract:With the development of our national advanced science and technology, and especially, the developmenbts of laser technique, microelectrronics and space technology, requirement for accuracy of optical component is greatly increased. LP—1000 annular buffing machine, a new high—precision equipment occurs. According to practise of our using LP—1000. This thesis mainly describes between the LP—1000 and existing EP3—350 triple axes buffing machine, and includs buffing mechanics, motion analysis and force analysis, as well as manufacturing process, faults easly happened when manufacturing high—precision optical component and correction method.
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