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驻留时间参数优化分析
引用本文:俞敏,杨力,万勇建.驻留时间参数优化分析[J].光学与光电技术,2006,4(1):5-7.
作者姓名:俞敏  杨力  万勇建
作者单位:中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院光电技术研究所,成都,610209
摘    要:驻留时间的求解是计算机控制光学表面成形(CCOS)中形的收敛速度和面形精度.提出以面形精度和收敛速度两者加权综合最优的原则,对求解驻留时间的去除系数进行优化,得出其优化式,并对优化式中影响两者权重的系数β进行仿真分析,结果表明口取值0.1,0.3]时能使驻留时间达到最优.

关 键 词:驻留时间  光学加工  计算机控制光学表面成形
文章编号:1672-3392(2006)01-0005-03
收稿时间:2005-07-06
修稿时间:2005-10-08

Optimizing Analyse on Dwell-Time Parameters
YU Min,YANG Li,WAN Yong-jan.Optimizing Analyse on Dwell-Time Parameters[J].optics&optoelectronic technology,2006,4(1):5-7.
Authors:YU Min  YANG Li  WAN Yong-jan
Abstract:
Keywords:dwell time  optical fabrication  CCOS
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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