首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

JB-Ⅴ型红外光刻机总体设计
引用本文:王超义,陈沐章,宋健,金贵林,戴洪波,刘玉贵.JB-Ⅴ型红外光刻机总体设计[J].微纳电子技术,1988(4).
作者姓名:王超义  陈沐章  宋健  金贵林  戴洪波  刘玉贵
摘    要:本文概述了红外对准光刻机的对准原理,分析了微动工作台的特点,对本机的电控系统及红外对准光学系统、曝光系统都作了探讨与总结、对机器总体结构及应用效果也作了叙述。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号