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碳化物价电子结构及其界面电子密度分析
引用本文:孙家涛,范润华,刘冰,陈云,尹衍升. 碳化物价电子结构及其界面电子密度分析[J]. 人工晶体学报, 2004, 33(3): 316-319
作者姓名:孙家涛  范润华  刘冰  陈云  尹衍升
作者单位:山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室,济南,250061
基金项目:国家自然科学基金 ( 5 0 2 42 0 0 8)资助
摘    要:运用固体与分子经验电子理论计算了六种过渡金属碳化物(MC)的价电子结构及其部分低指数晶面的电子密度.计算结果表明:MC最强键为最近邻M-C键,相邻(111)面间以最强键结合,滑移困难.通过对NiAl和MC的不同晶面的共价电子密度的分析发现:(110)NiAl和(100)MC在一级近似范围内基本上保持连续;采取适当的制备工艺,使复合材料中存在尽可能多的(110)NiAl∥(100)MC,有可能使这种复合材料具有更优异的力学性能.

关 键 词:界面  碳化物  价电子结构  金属间化合物,
文章编号:1000-985X(2004)03-0316-04

Analysis of Valence Electron Structure and Interface Electron Density of Carbide
SUN Jia-tao,FAN Run-hua,LIU Bing,CHEN Yun,YIN Yan-sheng. Analysis of Valence Electron Structure and Interface Electron Density of Carbide[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2004, 33(3): 316-319
Authors:SUN Jia-tao  FAN Run-hua  LIU Bing  CHEN Yun  YIN Yan-sheng
Abstract:
Keywords:composites interface  carbides  valence electron structure  intermetallic compound
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