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| NiCr溅射薄膜厚度分布的Monte Carlo模拟 | |
| 引用本文： | 于映,陈抗生.NiCr溅射薄膜厚度分布的Monte Carlo模拟[J].真空电子技术,1998(2):11-14. |
| 作者姓名： | 于映 陈抗生 |
| 作者单位： | 福州大学电子科学与应用物理系(于映，陈跃)，浙江大学信息与电子工程系(陈抗生) |
| 摘 要： | 本文采用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ（ＭＣ）方法对Ｓ－枪溅射ＮｉＣｒ薄膜过程进行了计算模拟，得到了沉积粒子在基片上的厚度分布，讨论了不同沉积参数对薄膜厚度分布的影响。 |
| 关 键 词： | 溅射薄膜 MC法 薄膜 |
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