| 衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响 |
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| 引用本文： | 赵子文,胡礼中,张贺秋,孙景昌,刘维峰,骆英民,霍炳至.衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响[J].人工晶体学报,2007,36(1):129-133. |
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| 作者姓名： | 赵子文 胡礼中 张贺秋 孙景昌 刘维峰 骆英民 霍炳至 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116023 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;辽宁省科技计划 |
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| 摘 要： | 利用脉冲激光沉积法(PLD)在c面蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜并对其进行了X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、光致发光(PL)谱和霍尔(Hall)测试.RHEED和XRD分析表明,温度在350℃至550℃之间时,ZnO薄膜的结晶质量随着衬底温度的升高而提高,当衬底温度进一步升高后,ZnO薄膜的结晶质量开始下降.四个样品中,衬底温度为550℃的样品具有最清晰的规则点状RHEED图像和半高宽最窄的(0002)衍射峰.PL谱和Hall测量的结果表明,衬底温度为550℃的样品还具有最好的发光性质和最大的霍尔迁移率.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 脉冲激光沉积 衬底温度 |
| 文章编号： | 1000-985X（2007）01-0129-05 |
| 修稿时间： | 2006-08-18 |
Effect of Substrate Temperature on the Optical and Electronic Properties of ZnO Film Prepared by PLD |
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| ZHAO Zi-wen,HU Li-zhong,ZHANG He-qiu,SUN Jing-hang,LIU Wei-feng,LUO Ying-min,HUO Bing-zhi.Effect of Substrate Temperature on the Optical and Electronic Properties of ZnO Film Prepared by PLD[J].Journal of Synthetic Crystals,2007,36(1):129-133. |
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| Authors: | ZHAO Zi-wen HU Li-zhong ZHANG He-qiu SUN Jing-hang LIU Wei-feng LUO Ying-min HUO Bing-zhi |
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| Institution: | State Key Laboratory for Modification by Laser, Ion, Electron Beams, Dalian University of Technology, Dalian 116023, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO film pulsed laser deposition substrate temperature |
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