发展光学薄膜技术的一条好途径

<正> 为改变我国现有真空镀膜设备及其控制技术的落后状况,以满足镀制复杂膜系、发展光学薄膜技术,西北光学仪器厂和五八研究所接受了上级下达的对东德B55-3-3旧镀膜机进行技术改造的任务。这项任务包括主机部分的改造、多坩埚磁偏转电子枪及镀膜参数控制系统的研制内容。镀膜参数控制系统由磁偏转电子枪扫描控制,SK蒸发速率自动控制、光学膜层厚度自动控制、真空压强自动控制、基片烘烤温度控制、高压灭弧复位自动控制、恒流源光源、光电倍增管高压电源等八部分组成。