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硅基片材料激光热处理的实验研究
引用本文:程国义,程念贫,阚成侠,胡宗福.硅基片材料激光热处理的实验研究[J].中国激光,1994,21(8):688-692.
作者姓名:程国义  程念贫  阚成侠  胡宗福
作者单位:合肥工业大学管理工程系
摘    要:介绍硅片材料激光热处理技术,分析报道了激光热处理和实验结果;并把这一研究结果试用于晶体管生产线上。

关 键 词:热光热处理,半导体器件,基片,PN结,热特性
收稿时间:1993/10/25

Experimental Study of Hot Curing of Si-wafers by Laser
Cheng Guoyi,Cheng Nianpin,Kan Chengxia,Hu Zongfu.Experimental Study of Hot Curing of Si-wafers by Laser[J].Chinese Journal of Lasers,1994,21(8):688-692.
Authors:Cheng Guoyi  Cheng Nianpin  Kan Chengxia  Hu Zongfu
Abstract:In this paper laser gettering technique is introduced.Its principle is analysed and some experimental results are presented. This technique is now on trial in a transistor'S production line.
Keywords:laser gettering  semiconductor device's bsse  P-N juction  thermal property  
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