退火气氛对氧化镓薄膜结构及特性的影响 |
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引用本文: | 陶志文,毛梓宁,许佳雄.退火气氛对氧化镓薄膜结构及特性的影响[J].光学学报,2023(23):318-324. |
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作者姓名: | 陶志文 毛梓宁 许佳雄 |
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作者单位: | 1. 广东工业大学材料与能源学院;2. 广东工业大学集成电路学院 |
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基金项目: | 广东省科技计划项目(2017A010104017); |
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摘 要: | 通过溶液法在石英玻璃衬底上制备氧化镓(Ga2O3)薄膜,研究氮气、空气和氧气气氛退火的Ga2O3薄膜的结构、光学特性、缺陷能级与电学特性。结果表明,氮气气氛退火的Ga2O3薄膜的形貌组织最致密均匀且最厚,氧气气氛退火的薄膜结晶度最优。所有样品在可见光区的平均透光率均高于80%,且在260 nm附近都出现陡峭的吸收边,在190 nm处透光率均低于10%,氮气、空气和氧气气氛退火的Ga2O3薄膜的禁带宽度分别为5.10 e V、5.07 e V和5.18 e V。氮气、空气、氧气气氛退火的样品在蓝-紫外波段的光致发光强度依次降低。根据光致发光谱分析Ga2O3薄膜缺陷能级,Ga2O3的施主能级到导带的距离随着禁带宽度值的增大而增大。氮气、空气、氧气气氛退火的样品电阻依次增大。本文实验中最优退火气氛为氮气。
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关 键 词: | 薄膜 氧化镓薄膜 退火气氛 溶液法 缺陷能级 薄膜特性 |
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