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退火气氛对氧化镓薄膜结构及特性的影响
引用本文:陶志文,毛梓宁,许佳雄.退火气氛对氧化镓薄膜结构及特性的影响[J].光学学报,2023(23):318-324.
作者姓名:陶志文  毛梓宁  许佳雄
作者单位:1. 广东工业大学材料与能源学院;2. 广东工业大学集成电路学院
基金项目:广东省科技计划项目(2017A010104017);
摘    要:通过溶液法在石英玻璃衬底上制备氧化镓(Ga2O3)薄膜,研究氮气、空气和氧气气氛退火的Ga2O3薄膜的结构、光学特性、缺陷能级与电学特性。结果表明,氮气气氛退火的Ga2O3薄膜的形貌组织最致密均匀且最厚,氧气气氛退火的薄膜结晶度最优。所有样品在可见光区的平均透光率均高于80%,且在260 nm附近都出现陡峭的吸收边,在190 nm处透光率均低于10%,氮气、空气和氧气气氛退火的Ga2O3薄膜的禁带宽度分别为5.10 e V、5.07 e V和5.18 e V。氮气、空气、氧气气氛退火的样品在蓝-紫外波段的光致发光强度依次降低。根据光致发光谱分析Ga2O3薄膜缺陷能级,Ga2O3的施主能级到导带的距离随着禁带宽度值的增大而增大。氮气、空气、氧气气氛退火的样品电阻依次增大。本文实验中最优退火气氛为氮气。

关 键 词:薄膜  氧化镓薄膜  退火气氛  溶液法  缺陷能级  薄膜特性
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