| Ar离子辅助沉积对含氢类金刚石薄膜结构影响的计算机模拟 |
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| 引用本文： | 李运超,开花,李双,郭德成,李之杰. Ar离子辅助沉积对含氢类金刚石薄膜结构影响的计算机模拟[J]. 计算物理, 2009, 26(5): 751-757 |
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| 作者姓名： | 李运超 开花 李双 郭德成 李之杰 |
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| 作者单位： | 内蒙古民族大学物理与电子信息学院,内蒙古通辽,028043;内蒙古民族大学物理与电子信息学院,内蒙古通辽,028043;内蒙古民族大学物理与电子信息学院,内蒙古通辽,028043;内蒙古民族大学物理与电子信息学院,内蒙古通辽,028043;内蒙古民族大学物理与电子信息学院,内蒙古通辽,028043 |
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| 基金项目： | 内蒙古自治区教育厅科研基金，内蒙古民族大学博士启动基金 |
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| 摘 要： | 选C2分子和一定量的H原子作为沉积源,Ar离子作为辅助沉积粒子,采用分子动力学(MD)方法模拟研究离子束辅助沉积(IBAD)生长类金刚石(DLC)膜的物理过程.给定Ar的入射能量并改变Ar的到达比(Ar/C),研究辅助沉积对DLC膜结构的影响;重点讨论Ar辅助沉积引起表面原子的瞬间活性变化对薄膜结构产生的影响.结果表明,由于Ar离子轰击引起的能量和动量的传递,增加了合成薄膜的SP3键含量,增大了合成薄膜的密度,加宽了沉积粒子和衬底的结合宽度,研究结果和实验观察一致,并从合成机理上给出一些定量解释.
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| 关 键 词： | 含氢类金刚石膜 离子束辅助沉积 分子动力学模拟 |
| 收稿时间： | 2008-03-18 |
| 修稿时间： | 2009-01-27 |
Simulation on Ar Ion Assisted Deposition of Hydrogen Diamond-like Carbon Films |
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| LI Yunchao,KAI Hua,LI Shuang,GUO Decheng,LI Zhijie. Simulation on Ar Ion Assisted Deposition of Hydrogen Diamond-like Carbon Films[J]. Chinese Journal of Computational Physics, 2009, 26(5): 751-757 |
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| Authors: | LI Yunchao KAI Hua LI Shuang GUO Decheng LI Zhijie |
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| Affiliation: | College of Physical and Electronic Information, Inner Mongolia University for Nationalities, Tongliao 028043, China |
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| Abstract: | Molecular dynamics(MD) simulation is made to study growth of diamond-like carbon(DLC) films via ion-beam-assisted deposition(IBAD).C_2 molecules and H ions are selected as deposition projectiles and Ar ions are selected as assistance projectiles.At fixed incident energy and varied ration(Ar/C),assisted deposition of film is investigated.Transient mobility and migration of C atoms due to Ar impact is investigated.It shows that the impact-induced high recoil energy and displacement of deposited C atoms play a... |
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| Keywords: | hydrogen diamond-like carbon films ion-beam assisted deposition molecular dynamics simulation |
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