| 非晶 Ti-Al 过渡层对 Pt/Ba0.6Sr0.4TiO3/Pt电容器结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 赵冬月,刘保亭,郭哲,李曼,陈剑辉,代鹏超,韦梦祎. 非晶 Ti-Al 过渡层对 Pt/Ba0.6Sr0.4TiO3/Pt电容器结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(1): 161-165 |
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| 作者姓名： | 赵冬月 刘保亭 郭哲 李曼 陈剑辉 代鹏超 韦梦祎 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学电子信息工程学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学电子信息工程学院,保定,071002 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，河北省自然科学基金，河北省应用基础研究计划重点基础研究项目，高等学校博士点基金 |
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| 摘 要： | 应用磁控溅射法在 Pt/Ti/SiO2/Si(001)衬底上制备 5 mm 厚超薄非晶 Ti-Al 薄膜作为过渡层,利用脉冲激光沉积法制备 Ba0.6 Sr0.4TiO3 薄膜,构造了 Pt/Ba0.6Sr0.4TiO3/Pt(Pt/BST/Pt)和 Pt/Ti-Al/Ba0.6Sr0.4TiO3/Ti-Al/Pt(Pt/Ti-Al/BST/Ti-Al/Pt)结构的电容器,研究了 Ti-Al 过渡层对 Pt/BST/Pt 电容器结构及其性能的影响.实验表明,过渡层的引入有效地阻止了 Pt 电极和 BST 薄膜的互扩散,降低了 BST 薄膜氧空位的浓度,提高了铁电电容器的介电性能.当测试频率为 1 kHz、直流偏压为0 V时,介电常数由引入过渡层前的 530 增大到引入后的 601,介电损耗则由0.09减小到0.03.而且过渡层的引入有效地降低了 BST 薄膜的漏电流,使正负向漏电流趋于对称,在测试电压为5 V 时,漏电流密度由3.8×10-5 A/cm2 减小到 8.25 ×10-6 A/cm2.
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| 关 键 词： | BST薄膜 非晶Ti-Al薄膜 过渡层 脉冲激光沉积, |
Effect of Amorphous Ti-Al Buffer Layer on the Structure and Properties of Pt/Ba0.6 Sr0.4 TiO3/Pt Capacitors |
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| ZHAO Dong-yue,LIU Bao-ting,GUO Zhe,LI Man,CHEN Jian-hui,DAI Peng-chao,WEI Meng-yi. Effect of Amorphous Ti-Al Buffer Layer on the Structure and Properties of Pt/Ba0.6 Sr0.4 TiO3/Pt Capacitors[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2011, 40(1): 161-165 |
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| Authors: | ZHAO Dong-yue LIU Bao-ting GUO Zhe LI Man CHEN Jian-hui DAI Peng-chao WEI Meng-yi |
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